実験装置

薄膜形成装置

Facing Targets Sputtering
対向ターゲットスパッタ (FTS)

アモルファスシリコン(a-Si)、水素化アモルファスシリコン(a-Si:H)を超低ダメージで高速(約80 nm/min)スパッタ可能です。

PECVD
DCスパッタ
SEM
真空蒸着装置
XRD
近接昇華装置

評価装置

Facing Targets Sputtering
分光エリプソメトリ
PECVD
疑似太陽光下IV特性評価装置
SEM
青色レーザー下IV特性評価装置
XRD
ホール測定装置