アモルファスシリコン(a-Si)、水素化アモルファスシリコン(a-Si:H)を超低ダメージで高速（約80 nm/min)スパッタ可能です。

薄膜の膜厚測定（a-Siであれば1nmくらいから）や光学特性（n,kスペクトル）の測定が可能です。20年以上使用していますが今でも研究室内で使用頻度の高い装置の1つです。